X射线分析显微镜XGT-5200

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  • X射线分析显微镜XGT-5200
  • HORIBA堀場
  • XGT-5200
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产品详细介绍

 

特長

  • Ø400μmプローブで有害元素管理の為のマッピング分析を実現!
    「Ø1.2mmでは大きい。もっと微小プローブで部品の有害元素マッピングが出来ないか?」というユーザの声にお応えしました。
    IC端子1本を狙い撃ちで分析できます。
  • 基板など複合部品の有害元素管理から微小領域の不良解析まで1台で対応
  • 高分解能・高計数率
    計数率10倍Up! (当社従来機種XGT-5000との比較)
  • 液体窒素不要

仕様

測定原理

エネルギー分散型蛍光X線分析

X線照射径

Ø10μm、50μm、100μm、400μm、1.2mm、3mmより仕様選択

測定対象元素

Na~U

試料室環境

大気

サンプルサイズ

300(W)×250(D)×400(H)mm